









pecvd(pulse enhanced chemical vaporized deition,电浆辅助化学气相沉积)工法并配合密闭抽真空设备,所以纳米等级的涂层颗粒可以顺着整机产品的微小缝隙飘进并附着于整机产品内部的大多数角落位置,也因为涂层的缝隙比水分子还小,所以可以起到隔绝湿气对电子产品的影响。另外,由于涂层的厚度大概有5-50nm,弹簧类零件(如连接器)只要经过摩擦就可以轻易的刮除这些涂层,达到电气接触的目的。

派瑞林(parylene)真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础,采用物理或化学方法,吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之,金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射,从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上
光学镀膜技术常用的方法是真空溅射镀膜玻璃基片,一般用来控制基片对入射光束的反射率和透过率,纳米涂层,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损耗,提高成像,纳米防污涂层,涂覆一层或多层透明介质膜,称为减反射膜或减反射膜。

首先采用深反应离子刻蚀制作微通道,然后沉积派瑞林涂层c在微通道上,同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上,在其上制作金电极,在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合,剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放(parylene)涂层微通道。通过控制(parylene)涂层沉积的厚度,可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道,同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法,纳米涂层模具,可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道,纳米防腐涂层,并通过释放工艺可以获得---的派瑞林涂层微通道,同时可以重复使用硅模,普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳,湿气及气体渗透性极低,具高屏障效果,抗酸碱性。

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