派瑞林镀膜-菱威纳米

常用制备派瑞林的方法是化学气相沉积法(cvd)，反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳碳键断裂，生成具有活性的对二亚---单体，派瑞林镀膜，当其从高温环境进入室温环境的沉积室时，不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。

        parylene适合用于铁氧体材料(磁环、磁芯)等电子组件的镀膜，镀膜后的电子组件其涂膜附着力强、耐磨性好、硬度高、抗高电压绝缘性强，马达风扇派瑞林镀膜，漆膜外观细腻均匀、柔滑、触感好。耐漆包线的绕线性强，漆膜不裂伤。同时可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能，派瑞林镀膜，可以解决普通环氧树脂喷涂处理后不耐酸、磨等方面的缺陷。parylene 涂层能在磁性材料表面形成均匀一同的绝 缘防护涂层！

        铸造部件：经parylene处理的表面不会有微粒产生，同时可以增强工作的---性，并且可防止污染。